本发明公开了一种磁流变流体动压复合抛光装置，包括抛光盘、第一转轴、抛光液、第二转轴、工件盘、磁性体和待抛光件，所述第二转轴向第一转轴方向水平滑动，所述磁性体设于所述抛光盘的下方，所述抛光盘固定安装于所述第一转轴上，所述工件盘固定安装于所述第二转轴上，待抛光件与所述抛光盘相接触；所述抛光盘的上表面沿圆周方向设有多个楔形结构，所述抛光液覆盖于所述抛光盘的上表面上。并且提供一种抛光方法，包括以下步骤：1)将抛光盘、待抛光件和工件盘进行安装；2)启动第一转轴和第二转轴进行抛光加工，并且不断向抛光盘的上表面加入抛光液，直至抛光完成；3)抛光完成。本发明具有抛光均匀、加工效率高和使用方便的有益效果。

本发明涉及一种磁流变流体动压复合抛光装置及其抛光方法，主要应用于光学晶体、陶瓷材料、半导体晶圆和金属镜面等超精密加工领域。该装置通过集成电磁调控的磁流变效应与流体动压润滑技术，实现纳米级精度表面抛光，特别适用于复杂曲面光学元件、微机电系统（MEMS）器件和精密模具型腔的抛光加工。在航空航天光学系统、高端医疗器械、集成电路封装和激光陀螺仪等制造领域具有突出优势，可显著提升加工表面完整性和形状精度，同时降低传统抛光工艺引起的亚表面损伤，满足高精度器件对表面粗糙度和面形精度的严苛要求。